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羟基在石英玻璃中是一种有害的非金属杂质,它可降低石英玻璃的耐温性,羟基含量1200×10-6时降低软化温度70℃,对半导体技术用石英玻璃有一定影响,在电光源石英玻璃中,羟基在高温下扩散出来使灯中的卤化物变质,电极氧化中毒,严重时会造成熄弧,影响灯的使用寿命。所以连熔石英玻璃要在真空中改为煅烧,消除羟基,称脱羟。
羟基工艺有三中形式:①在空气中进行煅烧,因为空气中含水,所以只能清除亚稳定羟基,脱羟基装备可采用隧道窑,推板窑或者箱式电炉,电加热,最高温度1000℃,脱羟后残留稳定型羟基含量在20×10-6左右;②在脱羟炉中通高纯N2【N2经过提纯,含水量为(1~2)×10-6】,脱羟设备可采用推板式电炉和箱式电炉,炉门必须密闭,炉子底部留有进N2口,炉子顶部留有出N2口,整个脱羟过程不断送入高纯N2.最高温度1100℃;③真空脱羟采用扩散泵抽真空,真空度为,5×10-3Pa,采用分子泵抽真空,真空度可达1×10-4Pa,炉子性能见下表。
产品型号
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炉内尺寸/mm
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最高温度/℃
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温度均匀性/℃
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机械真空度/Pa
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热态真空度/Pa
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L651211-11/ZM
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Φ200×300
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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L651211-13/ZM
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Φ300×400
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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L12700/ZM
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400×400×600
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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L12111-10/ZM
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610×610×1000
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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L12111-18/ZM
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700×700×1000
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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L12111-14/ZM
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700×800×1600
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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L12111-37/ZM
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800×1000×3300
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1200
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±5
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5×10-4
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5×10-3
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分子泵
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350×350×500
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1200
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±5
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5×10-5
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5×10-4
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